技術物理
國際簡稱:TECH PHYS+
Technical Physics是由Pleiades Publishing出版商主辦的物理與天體物理領域的專業學術期刊,自1997年創刊以來,一直以高質量的內容贏得業界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:1063-7842,E-ISSN:1090-6525),出版周期Monthly,其出版地區設在RUSSIA。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業及PHYSICS, APPLIED學科界的教育研究與實踐經驗的交流,發表同行有創見的學術論文,提倡學術爭鳴,激發學術創新,開展國際間學術交流,為物理與天體物理領域的發展注入活力。
該期刊文章自引率0.1428...,開源內容占比0,出版撤稿占比0,OA被引用占比0,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學術背景和興趣。Technical Physics已被國際權威學術數據庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內的學者和研究人員檢索和引用,有助于推動PHYSICS, APPLIED領域的研究進展和創新發展。
學科類別 | 分區 | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Physics and Astronomy (miscellaneous) | Q3 | 56 / 81 |
31% |
CiteScore: 這一創新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數據,跨越多個學科領域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區 | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區 | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區 | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理 | 4區 | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區 | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 4區 | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區 | 否 | 否 |
按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 152 / 179 |
15.4% |
按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 170 / 179 |
5.31% |
JCR(Journal Citation Reports)分區,也被稱為JCR期刊分區,是由湯森路透公司(現在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區標準。JCR分區基于SCI數據庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區:Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區的標準與中科院JCR期刊分區(又稱分區表、分區數據)存在不同之處。例如,兩者的分區數量不同,JCR分為四個區,而中科院分區則分為176個學科,每個學科又按照影響因子高低分為四個區。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
年份 | 年發文量 |
2014 | 322 |
2015 | 327 |
2016 | 315 |
2017 | 322 |
2018 | 303 |
2019 | 307 |
2020 | 308 |
2021 | 79 |
2022 | 168 |
2023 | 206 |
被他刊引用情況 | |
期刊名稱 | 引用次數 |
TECH PHYS+ | 339 |
TECH PHYS LETT+ | 115 |
PLASMA PHYS REP+ | 75 |
PHYS PLASMAS | 68 |
IEEE T PLASMA SCI | 66 |
PHYS SOLID STATE+ | 66 |
RUSS PHYS J+ | 55 |
SEMICONDUCTORS+ | 55 |
PLASMA SOURCES SCI T | 50 |
PHYS-USP+ | 39 |
引用他刊情況 | |
期刊名稱 | 引用次數 |
TECH PHYS+ | 339 |
J APPL PHYS | 165 |
TECH PHYS LETT+ | 152 |
PHYS SOLID STATE+ | 113 |
APPL PHYS LETT | 106 |
PHYS REV B | 82 |
PHYS REV LETT | 73 |
PHYS-USP+ | 63 |
J PHYS D APPL PHYS | 54 |
J EXP THEOR PHYS+ | 51 |
輻射探測技術與方法
中科院分區:4區
激光與光電子學進展
中科院分區:4區
Chinese Journal Of Lasers-zhongguo Jiguang
中科院分區:4區
天體動力學
中科院分區:1區
中國科學:物理學 力學 天文學
中科院分區:4區