Plasma Chemistry And Plasma Processing

Plasma Chemistry And Plasma Processing雜志簡介

Plasma Chemistry And Plasma Processing是由Springer US出版商主辦的物理與天體物理領域的專業學術期刊，自1981年創刊以來，一直以高質量的內容贏得業界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：0272-4324，E-ISSN：1572-8986），出版周期Quarterly，其出版地區設在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業及ENGINEERING, CHEMICAL學科界的教育研究與實踐經驗的交流，發表同行有創見的學術論文，提倡學術爭鳴，激發學術創新，開展國際間學術交流，為物理與天體物理領域的發展注入活力。

該期刊文章自引率0.0833...，開源內容占比0.0935，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.0820...，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學術背景和興趣。Plasma Chemistry And Plasma Processing已被國際權威學術數據庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內的學者和研究人員檢索和引用，有助于推動ENGINEERING, CHEMICAL領域的研究進展和創新發展。