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        Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

        微納光刻技術(shù)雜志
        國(guó)際簡(jiǎn)稱:J MICRO-NANOLITH MEM

        Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

        SCIE

        按雜志級(jí)別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

        • 2區(qū) 中科院分區(qū)
        • Q3 JCR分區(qū)
        • 0 年發(fā)文量
        • 0.00% 研究類文章占比
        • 7.69% Gold OA文章占比
        ISSN:1932-5150
        創(chuàng)刊時(shí)間:2007
        是否預(yù)警:否
        E-ISSN:1932-5134
        出版地區(qū):UNITED STATES
        是否OA:未開(kāi)放
        出版語(yǔ)言:English
        出版周期:Quarterly
        出版商:SPIE
        審稿周期: 較慢,6-12周
        CiteScore:3.4
        H-index:37
        開(kāi)源占比:0.0769

        Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志簡(jiǎn)介

        Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems是由SPIE出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊,自2007年創(chuàng)刊以來(lái),一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)(ISSN:1932-5150,E-ISSN:1932-5134),出版周期Quarterly,其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開(kāi)展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流,為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

        該期刊文章自引率0,開(kāi)源內(nèi)容占比0.0769,出版撤稿占比,OA被引用占比,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛(ài)好者,這些讀者群體來(lái)自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動(dòng)ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

        CiteScore(2024年最新版)

        • CiteScore:3.4
        • SJR:0.393
        • SNIP:1.723
        學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
        大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q2 299 / 672

        55%

        大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 389 / 797

        51%

        大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 113 / 224

        49%

        大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 223 / 434

        48%

        大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 155 / 284

        45%

        CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估,打破了過(guò)去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過(guò)綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開(kāi)放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo),幫助研究者深入了解超過(guò)22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

        CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比

        Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems中科院分區(qū)表

        中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
        大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
        中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
        大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
        中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
        大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
        中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
        大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
        中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
        大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
        中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
        大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
        中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖

        WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

        按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
        學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 187 / 275

        32.2%

        學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 255 / 342

        25.6%

        學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 91 / 107

        15.4%

        學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 68 / 100

        32.5%

        JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫(kù),按照期刊的影響因子進(jìn)行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個(gè)區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科,每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

        歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

        年份 年發(fā)文量
        2014 120
        2015 105
        2016 95
        2017 77
        2018 68
        2019 52
        2020 26
        2021 0
        2022 0
        2023 0
        若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。

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