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等離子源科技
國際簡稱：PLASMA SOURCES SCI T

Plasma Sources Science & Technology

SCIE

按雜志級別劃分： 中科院1區中科院2區中科院3區中科院4區

2區中科院分區
Q1 JCR分區
242 年發文量
99.17% 研究類文章占比
26.54% Gold OA文章占比

ISSN：0963-0252

創刊時間：1992

是否預警：否

E-ISSN：1361-6595

出版地區：ENGLAND

是否OA：未開放

出版語言：English

出版周期：Bimonthly

影響因子：3.3

出版商：IOP Publishing Ltd.

審稿周期：約6.0個月

CiteScore：7.1

H-index：94

出版國人文章占比：0.1

開源占比：0.1931

文章自引率：0.3157...

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Plasma Sources Science & Technology雜志簡介

Plasma Sources Science & Technology是由IOP Publishing Ltd.出版商主辦的物理與天體物理領域的專業學術期刊，自1992年創刊以來，一直以高質量的內容贏得業界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：0963-0252，E-ISSN：1361-6595），出版周期Bimonthly，其出版地區設在ENGLAND。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業及PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS學科界的教育研究與實踐經驗的交流，發表同行有創見的學術論文，提倡學術爭鳴，激發學術創新，開展國際間學術交流，為物理與天體物理領域的發展注入活力。

該期刊文章自引率0.3157...，開源內容占比0.1931，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.1047...，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學術背景和興趣。Plasma Sources Science & Technology已被國際權威學術數據庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內的學者和研究人員檢索和引用，有助于推動PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域的研究進展和創新發展。

收錄信息

SCIE（科學引文索引擴展板）

CiteScore（2024年最新版）

CiteScore：7.1
SJR：0.771
SNIP：1.373

學科類別	分區	排名	百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics	Q1	74 / 434	83%

CiteScore: 這一創新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數據，跨越多個學科領域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標準化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計數以及引用百分比。Scopus整合以上指標，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。

CiteScore分區值與影響因子值數據對比

Plasma Sources Science & Technology中科院分區表

中科院分區 2023年12月升級版

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
物理與天體物理	2區	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	1區	否	否

中科院分區 2022年12月升級版

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
物理與天體物理	1區	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	1區	是	否

中科院分區 2021年12月舊的升級版

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
物理與天體物理	2區	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	1區	是	否

中科院分區 2021年12月基礎版

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
物理	2區	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	1區	是	否

中科院分區 2021年12月升級版

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
物理與天體物理	2區	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	1區	是	否

中科院分區 2020年12月舊的升級版

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
物理與天體物理	2區	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	2區	否	否

中科院分區表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q1	6 / 40	86.3%

按JCI指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q1	6 / 40	86.25%

JCR（Journal Citation Reports）分區，也被稱為JCR期刊分區，是由湯森路透公司（現在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認的期刊分區標準。JCR分區基于SCI數據庫，按照期刊的影響因子進行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區的標準與中科院JCR期刊分區（又稱分區表、分區數據）存在不同之處。例如，兩者的分區數量不同，JCR分為四個區，而中科院分區則分為176個學科，每個學科又按照影響因子高低分為四個區。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發文數據

年份	年發文量
2014	187
2015	220
2016	190
2017	193
2018	258
2019	232
2020	299
2021	273
2022	295
2023	242

期刊互引關系

被他刊引用情況
期刊名稱	引用次數
PLASMA SOURCES SCI T	1576
J PHYS D APPL PHYS	745
PHYS PLASMAS	733
IEEE T PLASMA SCI	427
J APPL PHYS	370
PLASMA CHEM PLASMA P	186
JPN J APPL PHYS	171
PLASMA PROCESS POLYM	165
PLASMA SCI TECHNOL	148
VACUUM	110

引用他刊情況
期刊名稱	引用次數
PLASMA SOURCES SCI T	1576
J PHYS D APPL PHYS	1276
J APPL PHYS	702
PHYS PLASMAS	595
APPL PHYS LETT	335
IEEE T PLASMA SCI	296
J CHEM PHYS	236
PHYS REV A	227
PHYS REV LETT	189
PHYS REV E	167

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