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        Plasma Science & Technology

        等離子科技
        國際簡稱:PLASMA SCI TECHNOL

        Plasma Science & Technology

        SCIE

        按雜志級別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

        • 3區(qū) 中科院分區(qū)
        • Q3 JCR分區(qū)
        • 199 年發(fā)文量
        • 99.50% 研究類文章占比
        • 0.48% Gold OA文章占比
        ISSN:1009-0630
        創(chuàng)刊時間:1999
        是否預警:否
        E-ISSN:2058-6272
        出版地區(qū):PEOPLES R CHINA
        是否OA:未開放
        出版語言:English
        出版周期:Bimonthly
        影響因子:1.6
        出版商:IOP Publishing Ltd.
        審稿周期: 約4.5個月
        CiteScore:3.1
        H-index:27
        文章自引率:0.1176...

        Plasma Science & Technology雜志簡介

        Plasma Science & Technology是由IOP Publishing Ltd.出版商主辦的物理與天體物理領域的專業(yè)學術期刊,自1999年創(chuàng)刊以來,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:1009-0630,E-ISSN:2058-6272),出版周期Bimonthly,其出版地區(qū)設在PEOPLES R CHINA。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS學科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學術論文,提倡學術爭鳴,激發(fā)學術創(chuàng)新,開展國際間學術交流,為物理與天體物理領域的發(fā)展注入活力。

        該期刊文章自引率0.1176...,開源內(nèi)容占比0,出版撤稿占比0,OA被引用占比0,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學術背景和興趣。Plasma Science & Technology已被國際權威學術數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學者和研究人員檢索和引用,有助于推動PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

        CiteScore(2024年最新版)

        • CiteScore:3.1
        • SJR:0.401
        • SNIP:0.75
        學科類別 分區(qū) 排名 百分位
        大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q3 242 / 434

        44%

        CiteScore: 這一創(chuàng)新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學科領域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。

        CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

        Plasma Science & Technology中科院分區(qū)表

        中科院分區(qū) 2023年12月升級版
        大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
        中科院分區(qū) 2022年12月升級版
        大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū)
        中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
        大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū)
        中科院分區(qū) 2021年12月基礎版
        大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū)
        中科院分區(qū) 2021年12月升級版
        大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū)
        中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
        大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū)
        中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

        WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

        按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
        學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 26 / 40

        36.3%

        按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
        學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 19 / 40

        53.75%

        JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標準與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學科,每個學科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

        歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

        年份 年發(fā)文量
        2014 199
        2015 184
        2016 202
        2017 186
        2018 238
        2019 184
        2020 192
        2021 190
        2022 238
        2023 199

        期刊互引關系

        被他刊引用情況
        期刊名稱 引用次數(shù)
        PLASMA SCI TECHNOL 312
        IEEE T PLASMA SCI 125
        PHYS PLASMAS 93
        NUCL FUSION 76
        FUSION ENG DES 63
        AIP ADV 51
        J PHYS D APPL PHYS 43
        PLASMA CHEM PLASMA P 37
        J ANAL ATOM SPECTROM 35
        REV SCI INSTRUM 28
        引用他刊情況
        期刊名稱 引用次數(shù)
        PHYS PLASMAS 384
        PLASMA SCI TECHNOL 312
        J PHYS D APPL PHYS 243
        SPECTROCHIM ACTA B 241
        NUCL FUSION 204
        IEEE T PLASMA SCI 172
        PLASMA SOURCES SCI T 148
        APPL PHYS LETT 126
        PHYS REV LETT 123
        J APPL PHYS 120
        若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。

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