應用物理學雜志
國際簡稱:J PHYS D APPL PHYS
按雜志級別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)
Journal Of Physics D-applied Physics是由IOP Publishing Ltd.出版商主辦的物理與天體物理領域的專業(yè)學術期刊,自1970年創(chuàng)刊以來,一直以高質量的內容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:0022-3727,E-ISSN:1361-6463),出版周期Weekly,其出版地區(qū)設在ENGLAND。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, APPLIED學科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學術論文,提倡學術爭鳴,激發(fā)學術創(chuàng)新,開展國際間學術交流,為物理與天體物理領域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0.0882...,開源內容占比0.0917,出版撤稿占比0,OA被引用占比0.1061...,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學術背景和興趣。Journal Of Physics D-applied Physics已被國際權威學術數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內的學者和研究人員檢索和引用,有助于推動PHYSICS, APPLIED領域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。
學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Acoustics and Ultrasonics | Q1 | 8 / 44 |
82% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics | Q1 | 78 / 434 |
82% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films | Q1 | 30 / 132 |
77% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q1 | 65 / 284 |
77% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學科領域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理 | 3區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 63 / 179 |
65.1% |
按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73% |
JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標準與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學科,每個學科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
年份 | 年發(fā)文量 |
2014 | 842 |
2015 | 839 |
2016 | 1107 |
2017 | 1253 |
2018 | 1109 |
2019 | 960 |
2020 | 1173 |
2021 | 1209 |
2022 | 1127 |
2023 | 730 |
被他刊引用情況 | |
期刊名稱 | 引用次數(shù) |
J PHYS D APPL PHYS | 2388 |
others | 1963 |
PLASMA SOURCES SCI T | 1276 |
J APPL PHYS | 1102 |
MATER RES EXPRESS | 925 |
J MAGN MAGN MATER | 792 |
IEEE T PLASMA SCI | 759 |
J ALLOY COMPD | 697 |
PHYS PLASMAS | 665 |
PHYS REV B | 633 |
引用他刊情況 | |
期刊名稱 | 引用次數(shù) |
J PHYS D APPL PHYS | 2388 |
APPL PHYS LETT | 2365 |
PHYS REV B | 1983 |
others | 1814 |
J APPL PHYS | 1700 |
PHYS REV LETT | 1316 |
NANO LETT | 757 |
PLASMA SOURCES SCI T | 745 |
SCI REP-UK | 727 |
SCIENCE | 661 |
輻射探測技術與方法
中科院分區(qū):4區(qū)
激光與光電子學進展
中科院分區(qū):4區(qū)
Chinese Journal Of Lasers-zhongguo Jiguang
中科院分區(qū):4區(qū)
天體動力學
中科院分區(qū):1區(qū)
中國科學:物理學 力學 天文學
中科院分區(qū):4區(qū)