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        Ieee Transactions On Plasma Science

        IEEE Transactions On Plasma Science
        國際簡稱:IEEE T PLASMA SCI

        Ieee Transactions On Plasma Science

        SCIE

        按雜志級別劃分: 中科院1區 中科院2區 中科院3區 中科院4區

        • 4區 中科院分區
        • Q3 JCR分區
        • 419 年發文量
        • 99.05% 研究類文章占比
        • 3.86% Gold OA文章占比
        ISSN:0093-3813
        創刊時間:1973
        是否預警:否
        E-ISSN:1939-9375
        出版地區:UNITED STATES
        是否OA:未開放
        出版語言:English
        出版周期:Bimonthly
        影響因子:1.3
        出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
        審稿周期: 約3.7個月
        CiteScore:3
        H-index:98
        開源占比:0.0733
        文章自引率:0.2

        Ieee Transactions On Plasma Science雜志簡介

        Ieee Transactions On Plasma Science是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主辦的物理與天體物理領域的專業學術期刊,自1973年創刊以來,一直以高質量的內容贏得業界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:0093-3813,E-ISSN:1939-9375),出版周期Bimonthly,其出版地區設在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業及PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS學科界的教育研究與實踐經驗的交流,發表同行有創見的學術論文,提倡學術爭鳴,激發學術創新,開展國際間學術交流,為物理與天體物理領域的發展注入活力。

        該期刊文章自引率0.2,開源內容占比0.0733,出版撤稿占比0,OA被引用占比0.0011...,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學術背景和興趣。Ieee Transactions On Plasma Science已被國際權威學術數據庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內的學者和研究人員檢索和引用,有助于推動PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域的研究進展和創新發展。

        CiteScore(2024年最新版)

        • CiteScore:3
        • SJR:0.417
        • SNIP:0.861
        學科類別 分區 排名 百分位
        大類:Physics and Astronomy 小類:Nuclear and High Energy Physics Q2 42 / 87

        52%

        大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q3 247 / 434

        43%

        CiteScore: 這一創新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數據,跨越多個學科領域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。

        CiteScore分區值與影響因子值數據對比

        Ieee Transactions On Plasma Science中科院分區表

        中科院分區 2023年12月升級版
        大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 4區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區
        中科院分區 2022年12月升級版
        大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區
        中科院分區 2021年12月舊的升級版
        大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區
        中科院分區 2021年12月基礎版
        大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
        物理 4區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區
        中科院分區 2021年12月升級版
        大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區
        中科院分區 2020年12月舊的升級版
        大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
        物理與天體物理 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區
        中科院分區表歷年分布趨勢圖

        WOS期刊JCR分區(2023-2024年最新版)

        按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
        學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 40

        28.7%

        按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
        學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 40

        26.25%

        JCR(Journal Citation Reports)分區,也被稱為JCR期刊分區,是由湯森路透公司(現在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區標準。JCR分區基于SCI數據庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區:Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區的標準與中科院JCR期刊分區(又稱分區表、分區數據)存在不同之處。例如,兩者的分區數量不同,JCR分為四個區,而中科院分區則分為176個學科,每個學科又按照影響因子高低分為四個區。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

        歷年發文數據

        年份 年發文量
        2014 763
        2015 574
        2016 470
        2017 451
        2018 561
        2019 714
        2020 559
        2021 515
        2022 645
        2023 419

        期刊互引關系

        被他刊引用情況
        期刊名稱 引用次數
        IEEE T PLASMA SCI 2237
        PHYS PLASMAS 585
        J PHYS D APPL PHYS 364
        PLASMA SOURCES SCI T 296
        J APPL PHYS 236
        AIP ADV 211
        FUSION ENG DES 209
        IEEE ACCESS 201
        IEEE T ELECTRON DEV 180
        PLASMA SCI TECHNOL 172
        引用他刊情況
        期刊名稱 引用次數
        IEEE T PLASMA SCI 2237
        PHYS PLASMAS 882
        J PHYS D APPL PHYS 759
        IEEE T MAGN 593
        J APPL PHYS 583
        PLASMA SOURCES SCI T 427
        APPL PHYS LETT 341
        PHYS REV LETT 300
        REV SCI INSTRUM 278
        IEEE T DIELECT EL IN 268
        若用戶需要出版服務,請聯系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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