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【摘要】當(dāng)前,我國(guó)的半導(dǎo)體制造已經(jīng)進(jìn)入28納米制程量產(chǎn)節(jié)點(diǎn),所以很多工廠(chǎng)都引進(jìn)了相應(yīng)的設(shè)備,所引進(jìn)的相應(yīng)設(shè)備所使用的化學(xué)品量和相應(yīng)制程與以往有很大的不同。同時(shí),在注重環(huán)保的理念下,相應(yīng)的排放規(guī)則也與以往有所不同,所以這就對(duì)其廢水處理有著嚴(yán)格的要求。論文首先介紹了先進(jìn)制程對(duì)廢水排放的影響,以及半導(dǎo)體先進(jìn)制程的廢水處理系統(tǒng)的變化,進(jìn)而為半導(dǎo)體先進(jìn)制程的廢水處理提供相應(yīng)參考。
【關(guān)鍵詞】半導(dǎo)體;先進(jìn)制程;廢水處理技術(shù)
1引言
2017年,我國(guó)的半導(dǎo)體工廠(chǎng)數(shù)量越來(lái)越多,目前的數(shù)量已經(jīng)能夠滿(mǎn)足社會(huì)發(fā)展的需求,而且在數(shù)量不斷增多的基礎(chǔ)上,也在不斷地研究更高水平的半導(dǎo)體。而對(duì)于這其中的處理部門(mén)而言,在生產(chǎn)過(guò)程中濕式蝕刻和化學(xué)機(jī)械研磨這兩個(gè)部門(mén)所消耗的水量較大,那么就會(huì)在生產(chǎn)過(guò)程中出現(xiàn)大量的廢水。因此,這就需要根據(jù)這兩個(gè)部門(mén)來(lái)研究其廢水處理技術(shù),減少對(duì)水資源的浪費(fèi),更好地保護(hù)環(huán)境。
2先進(jìn)制程對(duì)廢水排放的影響
在傳統(tǒng)情況下,濕式蝕刻一般會(huì)利用相應(yīng)的機(jī)械來(lái)完成濕式蝕刻的具體處理工序,所利用的機(jī)械是將數(shù)十個(gè)半導(dǎo)體送入機(jī)械中,然后對(duì)其進(jìn)行蝕刻和清洗。在這其中,化學(xué)品的更換標(biāo)準(zhǔn)有兩個(gè)[1]:第一,實(shí)際的Lot數(shù);第二,物理時(shí)間。無(wú)論先達(dá)到哪一個(gè)指標(biāo),都會(huì)對(duì)其進(jìn)行換酸處理。在這種方法應(yīng)用下的化學(xué)品能夠反復(fù)使用,其沖洗則是按照Lot的具體情況來(lái)進(jìn)行,將對(duì)其完成沖洗后的水通過(guò)相應(yīng)系統(tǒng)進(jìn)行回收。而在先進(jìn)制程情況下,則開(kāi)始利用SingleWafer這種機(jī)器,這類(lèi)機(jī)器的構(gòu)成更為精密,其化學(xué)品處理方式與傳統(tǒng)的機(jī)械處理并不相同,此類(lèi)機(jī)器中可能會(huì)有幾種不同的制程,例如,清洗、噴氫氟酸,等等。因此,濕式蝕刻部門(mén)的廢水總量就開(kāi)始有所下降,其能夠進(jìn)行回收的水量也與以往相比有所下降。大多數(shù)情況下,利用這類(lèi)機(jī)器時(shí)沒(méi)有產(chǎn)生任何回收水,一些化學(xué)品在這種情況下,也不能夠反復(fù)使用,其化學(xué)品的用量有所增長(zhǎng),廢水的濃度增加。光照部門(mén)在應(yīng)用先進(jìn)制程后,其酸堿的廢水并沒(méi)有過(guò)多改變,其芯片變得復(fù)雜,并且其廢水中的各類(lèi)廢物,如單乙基醚丙二醇等廢液有所增多,其曝光次數(shù)也明顯增多,排水總量有所增加。
3化學(xué)品用量的變化
相比于之前而言,在先進(jìn)制程下很多化學(xué)品用量都有著明顯的增加,其廢液的排放量有所提升。例如,在傳統(tǒng)情況下,化學(xué)品一次曝光間隔排放量為1,而先進(jìn)制程一次曝光間隔使用的化學(xué)品用量為3~4。
4廢水廢液排放濃度的變化
對(duì)于半導(dǎo)體制造廠(chǎng)而言,在處理廢液的過(guò)程中,應(yīng)該按照我國(guó)相關(guān)規(guī)定執(zhí)行,其排放量每天要小于5t,并且在這個(gè)過(guò)程中盡量不要新建系統(tǒng),而是需要由相應(yīng)的外包廠(chǎng)商來(lái)對(duì)其進(jìn)行處理。在先進(jìn)制程中大多都會(huì)利用臭氧氧化制程,并沒(méi)有使用新的化學(xué)品,只是對(duì)其原有的比例進(jìn)行修改,進(jìn)而對(duì)其進(jìn)行使用,以此來(lái)獲取更為理想的效果。通過(guò)利用SingleWafer,能夠?qū)U水如氨水、氫氟酸的濃度或組分帶來(lái)較大的影響。
5廢水處理系統(tǒng)的變化
在先進(jìn)制程中,半導(dǎo)體行業(yè)廢水處理中的氫氟和氨氮系統(tǒng)依然存在,在這其中有所變化的是雙氧水的用量有很大的提升,這也就導(dǎo)致其排放廢水中的雙氧水比例大幅增加[2]。但是,當(dāng)前我國(guó)針對(duì)這一方面并沒(méi)有明確的規(guī)定,而且在對(duì)其處理的過(guò)程中,雙氧水的處理較慢,這就導(dǎo)致總排過(guò)高的雙氧水會(huì)影響COD的測(cè)定,而且在不斷分解中會(huì)出現(xiàn)氣泡,這樣在利用相應(yīng)機(jī)械時(shí),就會(huì)影響機(jī)械的正常使用。在新建系統(tǒng)的過(guò)程中,應(yīng)該積極利用雙氧水處理系統(tǒng),對(duì)廢氫氟酸、廢氨水等進(jìn)行處理,盡量減少磁力泵的使用,因?yàn)檫@類(lèi)設(shè)備會(huì)很容易受到氣泡的影響。在廢氨水系統(tǒng)進(jìn)水中,我國(guó)某半導(dǎo)體廠(chǎng)的雙氧水的濃度過(guò)高,如果在這其中是利用吹脫法來(lái)對(duì)其進(jìn)行處理,那么效果并不明顯,對(duì)其下游利用氫氟處理系統(tǒng)就能夠?qū)ζ溥M(jìn)行稀釋。如果利用藥劑法來(lái)進(jìn)行處理,其廢水處理成本約為每噸8元。當(dāng)前,利用錳催化還原工藝,能夠?qū)⑵涑杀窘档矫繃?.08元。在40nm以下的制程中,其含氫氟廢水量能夠達(dá)到總廢水的35%左右,而傳統(tǒng)的制程下,其只占據(jù)10%左右,一些地區(qū)的排放標(biāo)準(zhǔn)中對(duì)氟的要求是每升要低于10mL。因此,在先進(jìn)制程下,對(duì)于廢水處理系統(tǒng)的要求更高,如果沒(méi)有從多個(gè)方面來(lái)對(duì)其進(jìn)行考慮和處理,就很有可能會(huì)導(dǎo)致總排超標(biāo)。此外,工廠(chǎng)不僅需要為其建立規(guī)格較大的回流槽,還應(yīng)該在這其中添加除氟劑,以此來(lái)取得更為理想的去除效果。
6新增廢水處理系統(tǒng)
由以上可知,在先進(jìn)制程下,銅制程的排水量會(huì)有所增加,如果在此過(guò)程中沒(méi)有及時(shí)對(duì)其進(jìn)行處理,那么就會(huì)導(dǎo)致其排放量高于標(biāo)準(zhǔn)。因此,在這其中就應(yīng)該加設(shè)銅處理系統(tǒng)。對(duì)于銅處理系統(tǒng)來(lái)說(shuō),一般收集電鍍制程的沖洗水和銅制程研磨的含銅排放水。對(duì)于濃硫酸銅來(lái)說(shuō),一般都是利用外載回收的方法,其成本投入更低。對(duì)于銅的處理,利用傳統(tǒng)的沉淀法就能夠達(dá)到相應(yīng)的效果,雖然在這其中存在一定絡(luò)合態(tài)的銅,但是因?yàn)榻?jīng)過(guò)處理,系統(tǒng)出水能夠較為穩(wěn)定地控制在指標(biāo)之下。在這其中應(yīng)該注意的就是銅制程下的研磨劑更加容易出現(xiàn)沉淀,進(jìn)而就會(huì)對(duì)其排水管道造成堵塞,進(jìn)而影響沉淀效果。在銅處理系統(tǒng)中,應(yīng)該避免出現(xiàn)糊狀的沉淀物。通常情況下,可以利用硫酸去光阻,隨著SingleWafer設(shè)備的使用,其內(nèi)部的構(gòu)造也越來(lái)越復(fù)雜,這樣就導(dǎo)致廢硫酸量與以往相比有所增加。與此同時(shí),為了能夠達(dá)到更好的去除光刻膠的效果,就會(huì)提高雙氧水的比例,讓其發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。在這過(guò)程中就導(dǎo)致其具備較為明顯的氧化效果,而且在分解過(guò)程中還會(huì)產(chǎn)生大量的熱。因?yàn)樵谑褂眠^(guò)程中,硫酸是在高溫情況下所使用,那么設(shè)備都會(huì)為其配備相應(yīng)的制冷裝置,將其溫度控制在一定范圍內(nèi)再對(duì)其進(jìn)行排放。但是,因?yàn)椴煌脑O(shè)備其硫酸和雙氧水濃度各不相同,而且在生產(chǎn)過(guò)程中還會(huì)遇到其溫度變化的問(wèn)題。因此,雖然根據(jù)相應(yīng)數(shù)據(jù)標(biāo)準(zhǔn),PVC具備耐硫酸的特點(diǎn),但是因?yàn)榘雽?dǎo)體廠(chǎng)商都是利用碳鋼材料,這樣就需要在排放時(shí)選擇具有資質(zhì)的生產(chǎn)廠(chǎng)商,合理利用其PVDF、PTFE材質(zhì)。在處理過(guò)程中,受到其過(guò)氧硫酸濃度或者溫度的影響,會(huì)對(duì)其處理設(shè)備造成一定的影響。當(dāng)前,對(duì)于廢硫酸濃度還沒(méi)有明確的要求,但是,對(duì)于半導(dǎo)體廠(chǎng)商而言,在處理過(guò)程中,應(yīng)該先對(duì)其中的雙氧水進(jìn)行處理,以此避免管路的泄漏問(wèn)題。對(duì)于先進(jìn)制程而言,因?yàn)槠鋾?huì)利用臭氧進(jìn)行氧化處理,而對(duì)于能夠產(chǎn)生臭氧的相應(yīng)設(shè)備而言,其分為高濃度和低濃度兩種,在這其中的PE材質(zhì)很容易受到臭氧的影響,所以應(yīng)該對(duì)臭氧排水進(jìn)行單獨(dú)處理,可以利用PVC、PFA等材質(zhì),這樣能夠更好地保證其管路的質(zhì)量。如果其收集管上有著相應(yīng)的閥門(mén),那么就不應(yīng)該使用PP材質(zhì)。如果已經(jīng)使用了PVC材質(zhì),就應(yīng)該注意其材質(zhì)上閥門(mén)的情況,應(yīng)該盡量利用氟橡膠材質(zhì)。產(chǎn)生臭氧的設(shè)備其管道的材質(zhì)為不銹鋼,那么傳統(tǒng)臭氧發(fā)生器所使用的管路不銹鋼管不建議在半導(dǎo)體廠(chǎng)的排水管路上使用,因?yàn)樵谑褂肧ingleWafer之后,大多數(shù)情況下臭氧廢水和氫氟廢水同時(shí)排放。
7結(jié)語(yǔ)
總而言之,隨著先進(jìn)制程的應(yīng)用,半導(dǎo)體廠(chǎng)的廢水排放也與以往有所不同,廢水的濃度升高,而且回收量開(kāi)始減少。所以,針對(duì)這種情況就應(yīng)該增加含銅廢水處理系統(tǒng),進(jìn)而保證銅排放合理。此外,應(yīng)該添加廢硫酸處理系統(tǒng),以此來(lái)替代雙氧水系統(tǒng),進(jìn)而減少泄漏問(wèn)題的出現(xiàn),更好地讓廢水處理達(dá)到相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)。
【參考文獻(xiàn)】
【1】張?jiān)菩?陳鳴,厲曉華.半導(dǎo)體先進(jìn)制程對(duì)廢水處理的挑戰(zhàn)和對(duì)策[J].資源節(jié)約與環(huán)保,2018(11):63-64.
【2】半導(dǎo)體設(shè)備巨頭以鈷代銅行業(yè)需求即將爆發(fā)[J].新疆有色金屬,2017,40(03):98.
作者:魯旭萍 單位:高頻美特利環(huán)境科技(北京)有限公司
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